レゾナック・ホールディングス、AI活用の最先端シミュレーション技術で半導体材料開発を加速
■NNP技術を用いた高速計算でCMPスラリーのメカニズムを初めて解析 レゾナック・ホールディングス<4004>(東証プライム)は8月6日、AIを活用した新しいシミュレーション技術「ニューラルネットワークポテンシャル(NNP)技術」をCMPスラリーによる半導体基板研磨メカニズムの解明に初めて導入したと発表。この技術により、第一原理計算と同程度の精度を維持しつつ、10万倍以上の速度で化学反応のシミュレーションが可能となった。 半導体製造プロセスにおける複雑な材料挙動の解明が困難だ..