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大日本印刷、最先端半導体向け１０ｎｍテンプレート開発、省電力製造に貢献

2025/12/9 投資情報, 新製品＆新技術ＮＯＷ

■先端ロジック半導体の微細化ニーズに対応、２０２７年量産開始を目指す　大日本印刷＜７９１２＞（東証プライム）は１２月９日、ナノインプリントリソグラフィ（ＮＩＬ）向けに、１．４ナノメートル世代相当の最先端ロジック半導体にも対応可能な回路線幅１０ｎｍのテンプレートを開発したと発表した。同テンプレートは、ＮＡＮＤ型フラッシュメモリーに加え、スマートフォンやデータセンター向け先端ロジック半導体の微細化ニーズに対応する。　先端半導体分野では、ＥＵＶリソグラフィによる生産が進む一方、設備..